内容标题35

  • <tr id='T8pRQB'><strong id='T8pRQB'></strong><small id='T8pRQB'></small><button id='T8pRQB'></button><li id='T8pRQB'><noscript id='T8pRQB'><big id='T8pRQB'></big><dt id='T8pRQB'></dt></noscript></li></tr><ol id='T8pRQB'><option id='T8pRQB'><table id='T8pRQB'><blockquote id='T8pRQB'><tbody id='T8pRQB'></tbody></blockquote></table></option></ol><u id='T8pRQB'></u><kbd id='T8pRQB'><kbd id='T8pRQB'></kbd></kbd>

    <code id='T8pRQB'><strong id='T8pRQB'></strong></code>

    <fieldset id='T8pRQB'></fieldset>
          <span id='T8pRQB'></span>

              <ins id='T8pRQB'></ins>
              <acronym id='T8pRQB'><em id='T8pRQB'></em><td id='T8pRQB'><div id='T8pRQB'></div></td></acronym><address id='T8pRQB'><big id='T8pRQB'><big id='T8pRQB'></big><legend id='T8pRQB'></legend></big></address>

              <i id='T8pRQB'><div id='T8pRQB'><ins id='T8pRQB'></ins></div></i>
              <i id='T8pRQB'></i>
            1. <dl id='T8pRQB'></dl>
              1. <blockquote id='T8pRQB'><q id='T8pRQB'><noscript id='T8pRQB'></noscript><dt id='T8pRQB'></dt></q></blockquote><noframes id='T8pRQB'><i id='T8pRQB'></i>
                深圳市富士通通风净化设备有限公司,欢迎您!

                通风净化设备源头厂家

                无尘车间整体解决方案设计制造商

                全套自主生产 | 免费设计方案 | 全国100+网点

                工程设备一站式订购:

                0755-27889954

                133-1698-4226

                净化工程的洁净室中的温度和气压控制

                发布日期:2020-11-18阅读量:101
              2. 0
              3. 环保越来越受到人们的关注,尤其是雾霾天气的增多。净化工程是环保措施之一,如何利用净化工程来做好环保工作,下面来说说净化工程中的控制。

                环保


                1、洁净室中的温湿度控制

                洁净空间的温湿度主∮要是根据工艺要求来确♀定,但在满◣足工艺要求的条件下,应考虑到 人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也ぷ越来越严╳的趋势。

                具体工艺对温度的【要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越√精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集⌒ 成电路生产的光刻曝光工艺★中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。

                直径100 um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必▽须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因〗为人出汗以后,对产品将有污染,特别㊣是怕钠的半导体车间,这种车间不宜□ 超过25度。

                湿度△过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置◎或电路中,就会引起各种●事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘∩化学吸附在表面耐难以清除。

                相对湿◥度越高,粘附的难去掉,但当相对☆湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容█易吸◣附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产最佳温度范围为35—45%。

                洁净室


                2、洁净室中的气压规≡定

                对于大部分洁净空间,为了防止外界←污染侵入,需要保持内部的压力(静压)高于外部的》压力(静压)。压力差的维持一般应符合以下原则:

                1.洁净空间的压力要高●于非洁净空间的压力。

                2.洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。

                3.相通洁净╳室之间的门要开向洁净度级别ξ高的房间。

                压力差的维持依靠新风量,这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风♂量。所以压力差的物理意义就是漏泄(或渗透)风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。


                • 联系人:黄工
                • 电 话:0755-27889954
                • 手 机:133-1698-4226
                • 备 用:133-1698-4226
                • 传 真:00755-27889954
                • Q Q:1198102265
                • Email:1198102265@qq.com
                • 地 址:深圳市宝安区芙蓉七∩路新芙蓉科技园富士通

                微信二维码